用SIEVERS*INNOVOX ES实验室型TOC分析仪分析硫酸中的总有机碳（TOC）
在半导体行业中，硫酸用于晶圆蚀刻工艺。酸的纯度和洁净度对生产至关重要，这就要求硫酸供应商对产品批次进行污染控制，以满足工艺要求。很多行业在电镀工艺中使用硫酸铜。为了提高化学品的性能，生产商添加有机基体的匀染剂和增白剂。了解添加剂的用量及其潜在的分解物，有助于控制产品质量和工艺。
磷酸样品中TOC的测定-紫外湿法氧化
磷酸中杂质的监测对于其应用至关重要。除其它参数外，总有机碳还作为总量参数应用于质量控制中，用于评估有机杂质的整体污染情况。本文主要对紫外-过硫酸盐氧化法和NDIR检测器对磷酸中TOC杂质的全自动质量控制进行验证。
产品
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- 型号：multi N/C 3100
产品
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- 型号：UltiMate™ 3000
硼酸中阴离子的测定 离子色谱法
毫无疑问，常规阴离子的检测用离子色谱法已经很成熟稳定，水溶液中ug/L的阴离子检测也不存在问题。可是大浓度硼酸中阴离子检测却非常困难，由于在正常碳酸盐做淋洗液的条件下硼酸会出现很大的背景峰影响F-、Cl-的检测，科学实验表明在正常淋洗液中加入硼酸，很好的解决了这一干扰。本文以150mg/L硼酸为基体，加入ug/L的阴离子，获得很好的线性。
产品
150ppb硼酸中痕量（1-20ppb）阴阳离子同时检测 阴离子
150ppb硼酸中痕量（1-20ppb）阴阳离子同时检测阴离子阴离子工作曲线测试条件：仪器：普仁离子色谱仪色谱柱：阴离子交换柱进样体积：500μl温度：36℃线性范围：1-20μg/L
废浓硫酸（H2SO4）中氯离子（Cl-）的测定 离子色谱法
对于硫酸中氯离子的测定，在GB11198.13-89标准中，规定了用电位滴定法测定工业硫酸中的氯离子，其氯含量必须大于或等于0.0003%。本篇文章我们用离子色谱法对废浓硫酸（H2SO4）中氯离子（Cl-）的测定，方法简便、用时短且没有含量的限制。（PS:硫酸是强酸，不能直接进柱子,需经过一定的前处理）
产品
iCAP 7400 DUO在工业氢氟酸中杂质元素的分析
本文采用赛默飞世尔iCAP7400DUOICP-OES分析了38.52%工业无水氢氟酸和33.08%工业粗制氢氟酸，分析结果表明除As和K以外的其他元素可以直接上机或者稀释后测试，2种上机溶液结果偏差不大，而As需要稀释5倍以上才能确保结果的准确性，鉴于iCAP7400DUO测试的高效、简单、快捷，数据准确、稳定、灵敏，它是分析工业氢氟酸中金属杂质元素的*分析仪器。
产品
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- 型号：iCAP™ 7400
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