安捷伦半导体无机元素分析概览
ICP-MS作为一种金属元素分析仪器应用于半导体产业链,始于20世纪80年代。随着半导体制程的不断迭代,整个行业对ICP-MS的性能提出了越来越高的要求。过去30年来,位于日本东京的安捷伦ICP-MS全球研发中心与半导体产业链端客户密切合作,引领着ICP-MS在全球半导体产业链中的应用不断创新。
利曼Prodigy直流电弧光谱仪 (DC Arc) 测定高纯硅中的痕量元素
本文检测样品中的铝、硼、钙、铬、铜、铁、锰、镍、磷、钛和钒等,证明TeledyneLeemanLabsProdigy直流电弧光谱仪测定高纯硅中痕量元素的能力。
产品
整机外罩对外界水蒸气阻隔性能的监控方案
电子元器件对周围水蒸气含量要求严格,因此用于其外壳的整机外罩应具有很高的阻湿性,防止电子元器件出现老化等质量问题。本文利用Labthink兰光自主研发制造的W3/230水蒸气透过率测试系统对整机外罩样品进行水蒸气透过率测试,通过详细介绍设备测试方法、测试原理及试验过程,为相关电子器件生产企业严控外壳阻湿性提供有效的监控方案。
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国仪量子|量子钻石原子力显微镜在斯格明子研究中的应用
你能想象米粒大小的笔记本电脑硬盘吗?一种磁性领域的神秘准粒子结构——斯格明子(Skyrmion)可以让这个看似不可思议的想法成为现实,而且这颗“米粒”存储空间更大、数据传输速率更快。那么科学家是如何观测这种奇特的粒子结构呢?基于NV色心和AFM扫描成像技术的量子钻石原子力显微镜将告诉你答案。
通过密度和粘度在线监测进行半导体 CMP(化学机械抛光)浆料质量控制
表面的化学机械抛光(CMP)是一种通过化学反应去除表面材料的过程,也是半导体工业中用于制造集成电路和存储盘的标准制造工艺。在抛光垫和晶片之间使用主要包含纯水、化学试剂和不同抛光颗粒的CMP浆料。通过持续监测CMP浆料的健康状况,可以确保工艺性能,这有助于满足下一代浆料更严格的纯度和混合精度要求。此外,持续的粘度/密度优化有助于降低CMP工艺和耗材的成本。
Yield Engineering Systems-HMDS VAPOR PRIME 工艺应用说明
我们提供了一个统计设计实验(DOE)的示例,用于优化特定应用的过程参数,并总结了在德克萨斯大学达拉斯分校进行的统计设计实验(DOE)的结果。
产品
CPS-24000纳米粒度仪助力鼎龙攻克“卡脖子”材料技术难题
CPS-24000型纳米粒度分析仪是新型的纳米粒度分析仪,它采用斯托克斯定律分析方法,V=D²(ρP-ρF)G/18η,即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量,因此粒径相差小至1%的颗粒都可以明显分辨出来。适用于极稀到高浓度的样品粒度测定,对团聚体的存在非常敏感。
无液氦低温强磁场共聚焦显微镜应用方案
德国attocube公司生产的低温强磁场环境共聚焦显微镜attoCFM系统,成为了在纳米尺度研究量子点、量子器件光学性质的标准设备。
PEDOT分散液的分散解决方案及快速稳定性分析
可以利用低场核磁共振技术来测量悬浮液体系的驰豫时间,计算固体颗粒的湿润比表面积,并用来研究固体颗粒在溶剂中的分散性和稳定性等问题。
高压放大器在通电空心线圈的脉冲磁场分析中的应用
本文就通电空心线圈内部的脉冲磁场进行分析,先讨论单-频率脉冲信号激励下,线圈中轴线中点处的磁场,然后分析在频率时变脉冲信号激励下线圈中轴线中点处的磁场的变化规律,并通过自行搭建的测量装置对线圈磁场进行测量,与仿真分析的结果进行对比分析。
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