使用 NexION 300S / 350S ICP-MS 测定半导体行业常用有机溶剂中的杂质
本应用指南展示了NexION300SICP-MS抗干扰的能力，仅凭一次分析，便可在热等离子体条件下，轻松地测量IPA和PGMEA中的痕量杂质，且适用于所有分析物。是在一次分析中，可同时使用标准和反应两种模式。
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利用单颗粒ICP-MS 在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒
半导体产品中的金属污染使产品品质降低。半导体宽度越小，对金属污染物的容忍度越低。常见的金属污染是过渡金属元素和碱金属元素。过渡金属元素往往遍布半导体材料中并在表面形成多多种氧化物，其中铁是较常见的污染物。
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如何区分相对稳定和较不稳定的分散体?
分散体系类产品的配方与不稳定性相关，不稳定性指数已被证明是一种功能强大且易于使用的工具，可用于样品相分离和失稳的前期比较。同一类型的样品在相同条件下进行测试，这是快速进行产品分级以及质量控制的尚佳方法。
两款不同配方的金刚石CMP浆料的快速稳定性研究
本文利用LUM加速型稳定性/分散体分析仪对两款不同配方的金刚石CMP浆料进行快速稳定性研究。样品：编号DiamondCMP1，DiamondCMP2仪器和测试条件：仪器型号：LUMiFuge®稳定性分析仪（加速型，8通道）测试条件：2300g,20℃,2h
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- 型号：LUMi-Fuge
布鲁克三维光学轮廓仪在光学领域的一些应用
光学元件在各个领域都有广泛应用，对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度，从而用于优化加工方法，保证最终元器件的性能指标，是光学元件加工领域的关键问题之一。
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三维光学轮廓仪在光学领域的解决方案
光学元件在各个领域都有广泛应用，对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度，从而用于优化加工方法，保证最终元器件的性能指标，是光学元件加工领域的关键问题之一。
Attocube mK位移台在PhysRevX文章《外加磁场和电场的加速化子》中的应用
近，来自瑞士苏黎世联邦理工大学（ETHZürich）Prof.AtacImamoglu课题组展示了在非微扰耦合下的外电场和磁场加速化子和流动电子形成的新准粒子，称为化子。
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- 型号：ANP系列
Attocube mK位移台在nature文章《分数量子霍尔效应区的非线性光学》中的应用
瑞士苏黎世联邦理工学院（InstituteofQuantumElectronics,ETHZürich,Zürich,）的研究团队报告了在光学腔中嵌入个二维电子系统的时间分辨四波混频实验，证明当电子初始处于分数量子霍尔态时，化激元间的相互作用会显著增强。
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- 型号：ANP系列
离子色谱在导电银胶中测定氯离子的应用
导电银胶是一种固化或干燥后具有一定导电性能的胶黏剂，它通常以基体树脂和导电填料即导电粒子为主要组成成分,通过基体树脂的粘接作用把导电粒子结合在一起,形成导电通路,实现被粘材料的导电连接。
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- 型号：CIC-D150型
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