单颗粒 ICP-MS 测定铁纳米颗粒：利用通用池技术消除质谱干扰
随着纳米颗粒兴趣的增加，各种测试方法正被应用。采用单颗粒模式电感耦合等离子体质谱法（SP-ICP-MS）分析ICP-MassSpectrometry金属纳米颗粒成为有前途的技术之一。
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单颗粒ICP-MS测定化学-机械整平中使用的元素氧化物纳米颗粒悬浮物的特性
本研究概述了定量和表征纳米元素氧化物纳米颗粒（氧化铝和氧化铈），这些常用于纳米电子学和半导体制造行业中化学-机械（CMP）半导体表面的平整。CMP是一个结合了化学和机械外力平滑平面的过程，此步骤为光刻作准备。
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紫外-可见-近红外分光光度计测量粉末状 TiO2 带隙
测量材料的带隙对半导体、纳米材料以及太阳能等行业均非常重要。此篇文章描述了如何从某一材料的紫外吸收光谱确定它的带隙。
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- 型号：LAMBDA 1050+
使用 NexION 300S / 350S ICP-MS 测定半导体行业常用有机溶剂中的杂质
本应用指南展示了NexION300SICP-MS抗干扰的能力，仅凭一次分析，便可在热等离子体条件下，轻松地测量IPA和PGMEA中的痕量杂质，且适用于所有分析物。是在一次分析中，可同时使用标准和反应两种模式。
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利用单颗粒ICP-MS 在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒
半导体产品中的金属污染使产品品质降低。半导体宽度越小，对金属污染物的容忍度越低。常见的金属污染是过渡金属元素和碱金属元素。过渡金属元素往往遍布半导体材料中并在表面形成多多种氧化物，其中铁是较常见的污染物。
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如何区分相对稳定和较不稳定的分散体?
分散体系类产品的配方与不稳定性相关，不稳定性指数已被证明是一种功能强大且易于使用的工具，可用于样品相分离和失稳的前期比较。同一类型的样品在相同条件下进行测试，这是快速进行产品分级以及质量控制的尚佳方法。
两款不同配方的金刚石CMP浆料的快速稳定性研究
本文利用LUM加速型稳定性/分散体分析仪对两款不同配方的金刚石CMP浆料进行快速稳定性研究。样品：编号DiamondCMP1，DiamondCMP2仪器和测试条件：仪器型号：LUMiFuge®稳定性分析仪（加速型，8通道）测试条件：2300g,20℃,2h
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- 型号：LUMi-Fuge
布鲁克三维光学轮廓仪在光学领域的一些应用
光学元件在各个领域都有广泛应用，对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度，从而用于优化加工方法，保证最终元器件的性能指标，是光学元件加工领域的关键问题之一。
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三维光学轮廓仪在光学领域的解决方案
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